小摩：阿斯麦拟 2028 年产超 110 台 EUV 光刻机，英特尔将成重要客户

阿斯麦正研究 2028 年生产逾 110 部极紫外光（EUV）光刻机以应对 AI 需求，其 2027 年 EUV 光刻机产能几近售罄，当年可产至少 80 部，计划 2028 年提产约 30%，当前需求强劲，新订单多为 2028 年交付，扩产主要限制为组装速度。小摩预计英特尔 2027 年将重回阿斯麦重要客户行列，马斯克筹建的 Terafab 是新发展客户。新一代 High NA EUV 光刻机 2028 年开始被客户采用，大规模使用料将在未来 10 年逐步增加。2027 年阿斯麦对中国记忆体芯片制造商的销售将较强。